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半導(dǎo)體硅片生產(chǎn)用超純水處理設(shè)備

產(chǎn)品介紹
硅片,是制作集成電路的重要材料,通過(guò)對(duì)硅片進(jìn)行光刻、離子注入等手段,可以制成各種半導(dǎo)體器件。用硅片制成的芯片有著驚人的運(yùn)算能力??茖W(xué)技術(shù)的發(fā)展不斷推動(dòng)著半導(dǎo)體的發(fā)展。自動(dòng)化和計(jì)算機(jī)等技術(shù)發(fā)展,使硅片(集成電路)這種高技術(shù)產(chǎn)品的造價(jià)已降到十分低廉的程度。這使得硅片已廣泛應(yīng)用于航空航天、工業(yè)、農(nóng)業(yè)和國(guó)防,甚至悄悄進(jìn)入每一個(gè)家庭。
工藝設(shè)計(jì)
1、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透設(shè)備→中間水箱→中間水泵→離子交換器→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)
2、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→第一級(jí)反滲透→PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級(jí)反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)
3、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)
設(shè)備特點(diǎn)
1、連續(xù)運(yùn)行禪水質(zhì)穩(wěn)定品質(zhì)更佳。
2、系統(tǒng)運(yùn)行可靠性穩(wěn)定。
3、運(yùn)行成本低。
4、占地面積小。
5、自動(dòng)化程度高。
6、操作及維護(hù)簡(jiǎn)單,無(wú)需接觸酸堿。
7、使用安全及環(huán)境良好。
8、無(wú)污水排放,無(wú)環(huán)境污染。
技術(shù)參數(shù)
電導(dǎo)率:2-10μS/cm(25℃)
PH值:6.5-9
水溫度:5~35℃
總硬度:<0.5ppm
有機(jī)物:<0.5 ppm,TOC為零
氧化物:≤0.05ppm
鐵、錳:<0.01ppm
二氧化硅:<0.05 ppm
二氧化碳:<5ppm
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